Compatible 200 mm et 300 mm, le CD SEM Hitachi S9380I a été développé pour la production de masse de technologies 65 nm et pour le développement des technologies 45nm.
Il utilise une carte de traitement d'images, développée par Hitachi et spécifique à la microscopie électronique, qui permet une grande robustesse des recettes et une très grande précision et reproductibilité des mesures.
Le S9380II est parfaitement utilisable sur des résines sensibles type ArF. Les possibilités de l'appareil peuvent être étendues par des logiciels optionnels pour la revue de défauts par exemple ou l'OPC.

Le microscope à Force Atomique WA1200 Hitachi (200 mm, 300 mm) est automatique, robuste et fiable. Il permet de caractériser la surface des wafers à différentes étapes du process : mesure de rugosité, contrôle du profil des contacts et des lignes, etc...

Les modèles Rigaku 3640 (200 mm) et Wafer X300 (300 mm) sont des spectromètres de fluorescence X. Ils analyse des wafers : détermination de l'épaisseur des couches déposées, multi-couches et films minces; analyse élémentaire de ces couches. Plusieurs éléments peuvent être analysés simultanément. La mesure est précise, rapide et immédiate.

La TXRF (Fluorescence X en réflexion totale) est une méthode d'analyse élémentaire très sensible qui permet notamment le suivi de la contamination.
L'appareil permet une gestion optimale des appareils et d'anticiper des problèmes qui peuvent se révéler très dommageables et coûteux. Cet équipement est particulièrement indispensable lorsque deux filières cuivre et aluminium coexistent.
Rigaku propose deux modèles : le 3750 (200 mm) et le TXRF 300 (300 mm).
Pour obtenir des limites de détectabilité encore plus basses, Rigaku a développé un module permettant la décomposition automatique par voie chimique des couches déposées et leur concentration sous forme d'une goutte pour analyse par TXRF ou ICP. Ce module peut être intégré au TXRF ou "stand alone".